Opracowanie innowacyjnego procesu technologicznego do wytwarzania nowej generacji warstw TCF do zastosowań w wyświetlaczach oraz cienkowarstwowych ogniwach fotowoltaicznych

XTPL S.A.

prace B+R

Technologia wytwarzania nowej generacji transparentnych warstw przewodzących ( TCF – ang. Transparent conducting film).

12 906 248,52 zł

Przedmiotem projektu było opracowanie technologii wytwarzania nowej generacji transparentnych warstw przewodzących. Realizacja projektu stanowiła odpowiedź na zapotrzebowania rynku. Duże zapotrzebowanie na tego rodzaju materiały wynika z ograniczonego i niepewnego dostęp do indu, dynamicznego rozwoju elektroniki elastycznej i fotowoltaiki oraz oczekiwań klientów.

Stworzono warstwy TCF o znacznie poprawionych parametrach optycznych i elektrycznych: transmisja optyczna nie mniejsza niż 98% i rezystancja powierzchniowa na poziomie 65.5 Ω/sq (wielkość siatki 25 cm x 25 cm). Cel został osiągnięty poprzez opracowanie nowej metody nanoszenia ultracienkich (poniżej 5 mikrometrów) ścieżek przewodzących. Metoda składa się z odpowiednio opracowanego tuszu zawierającego nanosrebro oraz samej technologii druku. Wysokiej jakości innowacyjne nanotusze wykazują unikalne właściwości fizyko-chemiczne, interesujące z punktu widzenia producentów zaawansowanej elektroniki.